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NYS12-6C-抛光用纳米氧化硅
产品概述 本产品是我公司自主研发生产的具有粒径小、颗粒尺寸均匀且粒径分布窄、比表面积大、化学性能稳定的未经烘干的实心球状纳米氧化硅饼料。 产品特点 1、使用前须高速分散均匀，可提高抛光效率和精度； 2、纳米氧化硅分散抛光液具有很好的分散稳定性，粒度分布均匀； 3、产品颗粒尺寸均匀、粒径分布窄、化学性能稳定，可制造几何尺寸精度高和亚纳米级的表面粗糙度； 4、颗粒软硬度适中、抗冲击能力强，不划伤被抛物面、抛光均匀、减少表面缺陷、抛光效率高； 5、产品表面张力低、易清洗、去除率高，提高抛光的稳定性，减少设备腐蚀及磨损。 技术指标 项目技术指标型号NYS12-6C外观白色膏状含量（%）20±2粒径（%）30~40比表面积（m2/g）160±20Fe（%）≤0.005Cl（%）≤0.018 应用领域 本产品应用于产品粗抛和精密抛光，尤其是要求制造几何尺寸精度高和亚纳米级的表面粗糙度的产品表面精抛。广泛适用于不锈钢，钛合金，铝合金镜面抛光,光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面、宝石、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带等方面的精密抛光。 使用说明 产品使用前需高速乳化分散，建议添加量0.05%-1.5%；抛光纳米氧化硅高速分散后，为提高生产效率，可添加表面活性剂有效控制加工过程中抛光均匀性，减少表面缺陷，并提高抛光效率和抛光液的稳定性，减少对设备的腐蚀。 产品规格：25kg/袋
分类：
研磨抛光专用
详细信息
产品概述
本产品是我公司自主研发生产的具有粒径小、颗粒尺寸均匀且粒径分布窄、比表面积大、化学性能稳定的未经烘干的实心球状纳米氧化硅饼料。
产品特点
1、使用前须高速分散均匀，可提高抛光效率和精度；
2、纳米氧化硅分散抛光液具有很好的分散稳定性，粒度分布均匀；
3、产品颗粒尺寸均匀、粒径分布窄、化学性能稳定，可制造几何尺寸精度高和亚纳米级的表面粗糙度；
4、颗粒软硬度适中、抗冲击能力强，不划伤被抛物面、抛光均匀、减少表面缺陷、抛光效率高；
5、产品表面张力低、易清洗、去除率高，提高抛光的稳定性，减少设备腐蚀及磨损。
技术指标
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项目 |
技术指标 |
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型号 |
NYS12-6C |
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外观 |
白色膏状 |
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含量（%） |
20±2 |
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粒径（%） |
30~40 |
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比表面积（m2/g） |
160±20 |
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Fe（%） |
≤0.005 |
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Cl（%） |
≤0.018 |
应用领域
本产品应用于产品粗抛和精密抛光，尤其是要求制造几何尺寸精度高和亚纳米级的表面粗糙度的产品表面精抛。广泛适用于不锈钢，钛合金，铝合金镜面抛光,光学镜头、单芯光纤连接器、微晶玻璃基板、晶体表面、宝石、玻璃制品、金属制品、半导体材料、塑料、磁带、打磨带等方面的精密抛光。
使用说明
产品使用前需高速乳化分散，建议添加量0.05%-1.5%；抛光纳米氧化硅高速分散后，为提高生产 效率，可添加表面活性剂有效控制加工过程中抛光均匀性，减少表面缺陷，并提高抛光效率和抛光液的稳定性，减少对设备的腐蚀。
产品规格：25kg/袋
纳米氧化硅系列 纳米氧化钛系列 纳米氧化锌氧化铝系列
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